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北京中壓紫外線殺菌

北京中壓紫外線殺菌是在紫外反應器中加入過氧化氫經紫外光照射生成較高濃度的羥基自由基，可以用于溴味化合物的去除。對所有的細菌和病毒都能高效殺滅

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北京鍋爐補水

在北京鍋爐補水的軟化或除鹽過程中會用到離子交換或反滲透脫鹽設備。而水處理車間的生水（未處理的天然水）中帶有大量細菌和微量有機物，容易造成設備生物滋生和淤泥污堵，從而降低離子交換樹脂的交換容量和增加反滲透的透過壓力。

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UV超純水設備

UV超純水設備指電阻率達到18 MΩ*cm（25℃）的水。這種水中除了水分子外，幾乎沒有什么雜質，更沒有細菌、病毒、含氯二噁英等有機物，當然也沒有人體所需的礦物質微量元素，也就是幾乎去除氧和氫以外所有原子的水。

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TOC超純水

TOC超純水指需電子行業用水，其水中要去除細菌、泥沙、膠體、懸浮物、金屬這些導電雜質。其電阻率≥18MΩ/cm（25℃，EW-I）。

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UV冷卻水介紹

UV冷卻水介紹是指用于做冷卻介質的水，在電廠中主要指在凝汽器中用于冷卻汽輪機排汽的水。

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二次供水紫外消毒設備

二次供水紫外消毒設備具有良好的殺菌效果，由于他不改變水的物理、化學性質，所以在飲用水、食品、飲料、化工、電子、醫藥、生活水箱、中水是*的理想消毒設備

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UV光催化高級氧化

UV光催化高級氧化技術原理：在紫外線激發下H2O2可產生具有很強氧化性的羥基自由基，可將有機污染物最終礦化為CO和H2O，其中間產物具有較多含氧官能團， 有效提高了廢水的可生化性。

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UV系列紫外線消毒器

UV系列紫外線消毒器占地面積小，系統結構緊湊，潛在風險小，確保操作人員安全。系統的安裝十分簡便，不會對工廠的正常生產造成干擾，所需要的維護工作簡便，相比于其他的飲用水深度處理工藝有著顯著的優勢

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半導體超純水介紹

半導體超純水介紹主要用于生產超純水過程中去除TOC有機物，降低TOC出水指標，使出水滿足美國ASTM超純水水質標準及電子工業部電子級水水質標準。

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鍋爐補水 鍋爐給水泵

在鍋爐補水的軟化或除鹽過程中會用到離子交換或反滲透脫鹽設備。而水處理車間的生水（未處理的天然水）中帶有大量細菌和微量有機物，容易造成設備生物滋生和淤泥污堵，從而降低離子交換樹脂的交換容量和增加反滲透的透過壓力。

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UV超純水

UV超純水指需電子行業用水，其水中要去除細菌、泥沙、膠體、懸浮物、金屬這些導電雜質。其電阻率≥18MΩ/cm（25℃，EW-I）。

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HEBF系列中壓紫外線消毒器

HEBF系列中壓紫外線消毒器不僅有良好的消毒效果，還具備降解游泳濁水中的化合氯(氯胺和三鹵甲烷等附屬作用，能有效提高游泳池水質：而且具備低能耗、低成本、無二次污染、對環境無害等優點，

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半導體超純水

半導體超純水主要用于生產超純水過程中去除TOC有機物，降低TOC出水指標，使出水滿足美國ASTM超純水水質標準及電子工業部電子級水水質標準。

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水光學紫外線技術 紫外線消毒器

水光學紫外線技術 作為城市供水系統的“后一公里”，二次供水也是導致城市供水水質污染的主要環節之一，其目前存在的管網老舊、設施老化、管材不符合要求、管理不規范等問題，對水質安全造成威脅。

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鍋爐補給水 鍋爐給水泵

在鍋爐補給水的軟化或除鹽過程中會用到離子交換或反滲透脫鹽設備。而水處理車間的生水（未處理的天然水）中帶有大量細菌和微量有機物，容易造成設備生物滋生和淤泥污堵，從而降低離子交換樹脂的交換容量和增加反滲透的透過壓力。

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