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深入了解紫外線光解技術在半導體水處理中的應用

更新時間: 2024-01-12
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  紫外線光解技術被廣泛應用于各種領域,其中就包括超純水的制備。在超純水的生產過程中,微粒子、電阻率和TOC等任何一個指標稍有差異,都可能導致半導體元件生產的合格率下降。對于超純水處理,紫外線光解技術具有以下優點。
 
  1.殺菌作用:紫外線具有很強的殺菌能力,能夠有效殺滅超純水中的細菌和病毒,降低微生物的數量,保證水質的純凈度;
 
  2.臭氧消除:在半導體生產中,臭氧經常被用來消毒和凈化水。然而,水中殘留的臭氧可能會影響半導體制備下一道工序。紫外線光解技術可以有效地分解水中的臭氧,避免其對設備造成影響;
 
  3.降低總有機碳(TOC): 紫外線光解技術能夠將有機物質分解成小分子,最終產物為二氧化碳和水,從而降低水的TOC含量;
 
  4.余氯降解:在半導體生產過程中,為了避免對產品產生不利影響,去除水中的殘余氯是必要的預處理,紫外線光解技術能有效地去除水中的殘余氯;
 
  5.安裝簡便:紫外線光解設備結構簡單,安裝方便,不需要特別的管道和設備在超純水制備過程中。
 
  需要注意的是,當前半導體行業超純水制備工藝存在設計、施工安裝及運維方面等痛點,安力斯立足技術創新,針對行業技術難點攻克。用持續的研發投入與產品迭代,使安力斯擁有了超純水TOC光解技術。通過提升超純水水質指標,優化水循環再生解決方案,幫助提升產品良品率和水資源利用效率,以“雙維度”助力半導體企業降本增效。
安力斯-超純水TOC降解產品
 
  總的來說,紫外線光解技術在半導體超純水處理中起到了非常重要的作用。它提高了產水水質、降低了微生物數量、降解了有機物和余氯,為半導體領域的生產提供了重要的技術及設備支持。
 
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